exposure is to copy the mask pattern into the silicon surface.
曝光是将相应的掩膜版图形复制到硅片表面。
Pre-Processing Program for Mask Pattern Data in Expanding CIF Format
扩充CIF版图数据预处理程序
Fine-ray, 2 ranks mainly under themicroscope. chocolate colored, board wax mask texture , Chord Flocculent mask pattern.
木射线细, 显微镜下2列为主. 木材深红褐至巧克力色, 板面具蜡质感,弦面具絮状花纹.
lithography process is one of the most important semiconductor manufacturing process steps, it is used to copy mask plate pattern on the silicon wafer for next lithography step.
光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一,其作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上,为下一步工序做好准备。
copying the holographic pattern on the optical mask plate and forming a metal plate with the holographic pattern;
将所述光学掩模板上的全息图纹翻录,形成具有全息图纹的金属板;
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