Imaging interferometric lithography ( IIL) uses multiple exposure to record different portions of the spatial frequency space of mask and greatly increases resolution.
成像干涉光刻技术(IIL)利用多次曝光分别记录物体空间频率的不同部分,极大地提高了成像质量,其中大角度倾斜照明是对OAI的扩展。
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