plasma sputtering
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- 释义
等离子[体]溅射
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1、
用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.
来源：互联网摘选
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