氧化锡;二氧化锡
It occurs chiefly as stannic oxide , SnO 2 in cassiterite.
主要以氧化物状态存在.
Boron trichloride has been used in a new process for etching stannic oxide films ( non-isothermal plasma) which is capable of etching 1.5 micron lines with excellent resolution and high precision.
本文采用三氯化硼作反应试剂,研究一种新的蚀刻二氧化锡薄膜工艺.此工艺可以蚀刻1.5μm的线条,其分辨率好且精度高。
The rich tin layer was oxidated to produce form a stannic oxide transparent thin film with dense and microcrystal struc-ture.
富锡层逐渐氧化生成致密的、显微晶态的SnO2膜。
The stannic oxide thin films have numerous applications.
二氧化锡薄膜应用广泛.
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